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碳化硼薄膜的激光法制备及性能

2013-08-20 admin1
下面采取KrF准分子式激光器机器器,在Si,Ge光电技术衬底上化学合成了氧化硼pe膜,调查了差异激光器机器体力、靶材与衬底相距、衬底负偏压等状态对pe膜特点的不良影响。灵活运用傅里叶更改红外光谱图仪(FT—IR)和微米折皱仪,并合理性光电技术pe膜自测的公用规范标准,对样机的光电技术利用率、微米抗拉强度及膜层与衬底的构建特点完成了自测。但是是因为:Si,Ge衬底单方面镀氧化硼pe膜后非常高利用率增强1O 上文,微米抗拉强度增强到未电镀的3倍上文,且膜层与衬底有很不错的构建特点,是因为化学合成的氧化硼pe膜可对光电技术物料发挥着很不错的增透保障使用。

碳化硼薄膜的激光法制备及性能

无定形碳硼具有着高强度、高溶点、高回弹性模量等多的非常好性能问题,自1857年发掘近年来,在厂家、电子器件、热学、生物学科技领域被建材理论学家越越少的大家关注,可比较大面积用到制成不同的耐腐加工零件、热电阻开关元件、高温高压半导体行业等,但其在磁学问题的技术应用理论探究对于较少。无定形碳硼光突显出岁月率约为2.2,而经常使用磁学建材如Si( 一3.42),Ge( 一4.0)光突显出岁月率很大的,在磁学衬底上镀制无定形碳硼护理膜有机会发挥增透护理影响。分为水粒子束基性岩的无定形碳硼护理膜可将在紫外光线规模内(67.O~121.6 rim)的铅直入射光的反射强度率上升3O 。无定形碳硼护理膜的制作办法理论探究较多的是生物学气质联用、基性岩法和磁控溅射法。成了使无定形碳硼护理膜到更比较大面积的技术应用,必定上升无定形碳硼护理膜与衬底的结合起来力,降低其弯曲应力并上升护理膜的匀高密度性。


外国人开展业务了离子束磨合法治建设备无定形碳硼pe膜的探析,如主要选择KrF离子束(248 nm)和Nd:YAG两倍频离子束(266 nm)准备无定形碳硼膜,出现 碳和硼原子结构还有构建壮态等都要与离子束通量体积高密度想关;在不一衬底温度表、衬底偏压等能力下准备了无定形碳硼pe膜,探析了pe膜的表面能形貌、碳和硼正比、消化吸收及对抗强度等的耐磨性,出现 当离子束力量体积高密度为5 J/cm 时,pe膜对抗强度最好。硅和锗是当前工作最应用的红外光学玻璃仪器食材,本篇文章主要选择离子束磨合法在此不一样食材上准备了无定形碳硼pe膜,探析了不一离子束力量、靶材与衬底相距、衬底负偏压等对pe膜的耐磨性的作用,并对pe膜的光学玻璃仪器透光性率、对抗强度及与衬底的构建的耐磨性去了测试软件解析。


1、增碳硼聚酯薄膜备制 该研究主要包括Compex205型KrF准分子式离子束束器(激发光谱仪248 nlTl,脉宽20 ns,相同次数50 Hz,单脉冲离子束卡路里大于850 mJ),靶材由炭化硼nm银溶液煅烧而成,高低为+30 mm,将炭化硼nm银溶液与石墨粉相混制靶,并调控石墨粉的百分比,可调制靶材中硼的硫含量,衬底选择P型Si和Ge,高低为$25.4 mm。衬底在倒出重力作用室前先用金刚石粉悬液家电家电的清洗养成微异常现象,以加强pet胶片与衬底的根据在一起在一起力,如何再用工业乙醇家电家电的清洗祛除表层有机的物,抽真空环境干燥后实时倒出重力作用室,同一为了能够进这一步加强pet胶片的根据在一起在一起的性能指标,在玻璃镀膜前将衬底主要包括Ar 溅射家电家电的清洗10 min。在温度、重力作用度1O Pa生活前提条件下,分为在各不相同离子束束卡路里(200~800 mJ)、靶材与衬底距(4~8 cm)和衬底负偏压(0~一600 V)生活前提条件下镀制了炭化硼pet胶片,主要包括Nicolet6700型傅里叶改换红外光谱仪仪(FT—IR)对Si,Ge样片的透光性率完成在測量,主要包括Nano Indenter G2OO0型nm折痕仪对试品表层的nm氏硬度及优质的配置模量完成在測量,并措施光学材料pet胶片自测的专用标淮,对试品的膜层与衬底根据在一起在一起的性能指标完成了自测。


2、科学试验結果与探讨一下 在机光积累petpet聚酰亚胺膜和珍珠棉进程中,机光的优点基本指标对petpet聚酰亚胺膜和珍珠棉的特点有更大的应响。机光光波波长重点应响等铝亚铁化合物体中铝亚铁化合物的卡路里,机光输出导热系数则对铝亚铁化合物卡路里及petpet聚酰亚胺膜和珍珠棉的生長时间都是有应响。在靶材与衬底相应4 cm的能力下,各采取200,300,400,500,700,800 mJ机光卡路里,在Si衬底上制得了petpet聚酰亚胺膜和珍珠棉,经红外光谱仪仪测试方法会挖掘,合格品的最好经过率由于机光卡路里的提高而提高,虽然在800 mJ能力下制得的合格品petpet聚酰亚胺膜和珍珠棉外表面急剧掉下来,说明书怎么写这段时间petpet聚酰亚胺膜和珍珠棉的应力应变更大,同时800 mJ时合格品的经过率也只比700 mJ时合格品的经过率大0.5 9/6身边,综合评估了解,观点机光的最合适卡路里约为700 mJ。再次能力下,对靶材与衬底相应开展提高,会挖掘靶材与衬底间的相应是越小更好,也是越大更好,即使会存在这个最合适值,得到了靶材与衬底的最合适相应为6 cm。衬底负偏压是机光积累法治得petpet聚酰亚胺膜和珍珠棉时这个重要性的辅助软件机制,基本观点负偏压对petpet聚酰亚胺膜和珍珠棉特点的应响重点展示在三个部分:六是负偏压提高了等铝亚铁化合物体对衬底的轰击的功效,凹坑微一些缺陷的形成增高了petpet聚酰亚胺膜和珍珠棉与衬底的沾染面积计算,提高结束合抗压强度;二要负偏压可变化等铝亚铁化合物体中铝亚铁化合物的动力和petpet聚酰亚胺膜和珍珠棉的积累速率单位,铝亚铁化合物动力的变化将会对petpet聚酰亚胺膜和珍珠棉的构造与特点形成应响。各在衬底偏压0,一200,一300,一400,一500,一600 V能力放到合格品上制得了炭化硼petpet聚酰亚胺膜和珍珠棉,会挖掘再次实验所设计能力下衬底加负偏压对petpet聚酰亚胺膜和珍珠棉的电子光学经过率可以说无应响,这将是因此本生产设备难以供应的最好负偏压一600 V还不够高,还不允许对等铝亚铁化合物体形成质的变化。一般合格品的具体实施实验所设计基本指标及单侧表层的镀膜后的峰峰值经过率见表1。


表1土样的實驗叁数  

滤光片

  最佳的状况下的单层镀无定形碳硼聚酰亚胺膜的8i,Ge图纸及未镀晶的Si,Ge衬底红外映出率相对较拟合曲线如图是1右图,各种测试可是表面,镀无定形碳硼聚酰亚胺膜后si片和Ge片的是最高的映出率分开由53 和45 加强到65.8 和59.2 。其次Ge片上无定形碳硼聚酰亚胺膜看了在10 gm左右时间两边有比较明显消化释放率,si片镀晶后10 m左右时间两边的消化释放率也会有所不断地,这与文章E8]Si片上镀晶后看了B—c键(1085 cm )类型消化释放率的可是接近。  

滤光片

  图1 Si,Ge仿品的红外利用率曲线图


再生利用微米折皱仪,通过连续性应力应变测定技木和公布的膜涂料流体力学对模型,对原辅料表面层的微米对抗强度及塑性模量通过测定,保证质量各种测量各种测量没想到在膜厚2O 以上基本的不会有衬底因素的影响力到,各个原辅料分别是通过10个有差异 的位置的折皱各种测量各种测量,折皱的跨距只要长期保持在最大程度折皱深层次的30倍避免止折皱应力应变场的互相影响力到。各种测量各种测量感觉,原辅料的微米对抗强度大过33 GPa,而塑性模量大过387 GPa,而Si,Ge涂料其实质就的微米对抗强度仅为10 GPa以內。


要为验测膜层与衬底物料的综合功效方面,标淮光学玻璃材料元件复合膜测量的通用的标淮,用透明图片磨砂玻璃高温胶带粘拉,膜层无掉了。在酸度为5.0 9/6的氯化钠液体中,常温的下浸湿24 h,膜层也无掉了,表示膜层符合光学玻璃材料元件复合膜的施用必须。还,小编将产品的印刷品存放在热水中浸湿24 h后,遇到产品的印刷品面的膜层没有破坏无损音乐,透光性率测量也无显著变低,表示膜层的结实性强。在前头探究了其他衬底偏压條件下,膜层的光学玻璃材料元件透光性率主要无不同,而在综合功效方面研究中,遇到跟着衬底负偏压的扩大,产品的印刷品膜层耐清煮周期迅速会变长,即相较于较一般而言,在衬底负偏压一600 V條件下配制的氢氟酸处理硼复合膜与衬底的综合工作能力最牛,表示衬底负偏压可能加快复合膜与衬底的综合力。


在科学实验毕竟应该也可以看出,本技术备制的氢氟酸处理硼透明膜对Si,Ge光纤激光切割机的物料体现了好的增透影响,膜层抗拉强度较高,还与衬底整合特点参数好,应该有所作为光纤激光切割机的物料好的增透保护的膜。类金刚石膜体现了宽光谱图透光、高抗拉强度、高烧导率和优质的保持稳定可靠性等优势:,其影响以及取得了大多数的联系和喜爱,有时候可能其与某一光纤激光切割机的物料,如混炼锌等,产生着物理化学特点参数区别大等情况,始终无法 可以直接结实地镀制在此类光纤激光切割机的物料上,进行氢氟酸处理硼膜与类金刚石膜的结合膜系一般解决办法此种薄弱环节,同时氢氟酸处理硼膜的热保持稳定可靠性可荐于类金刚石膜,故其结合膜系也可映射类金刚石膜的app范畴。


3、结 论 本论文利于KrF准分子式缴光器,选取缴光形成溥膜方式方法与生产工艺设计,在与众不同的缴光能量转换、靶材与衬底多远及衬底负偏压前提下,在Si,Ge光学反应玻璃反应建筑相关材料上提纯了无定形碳硼溥膜,设计了与众不同的生产工艺设计前提对形成溥膜功效的反应,并对溥膜的透光性率、硬性下列不属于与衬底的依照功效等参与了测式。最终表述,si,Ge样品管理镀制无定形碳硼溥膜后透光性率皆有显眼提生,最高的透光性率依次由53 和45 回落到65.8 和59.2%,其知硬性也提生到未表层的镀膜时的3倍之上,法律依据光学反应玻璃反应溥膜的万能规格测式也表述膜层与衬底的依照功效过强,总体设计策略而言本设计提纯的无定形碳硼溥膜是可以对光学反应玻璃反应建筑相关材料产生适合的增透防护帮助。
标记: 碳化硼薄膜