真空镀膜技术的一般术语及工艺
2013-08-17
admin1
2.4化学气相沉积;CVDchemicalvapordeposition:一定化学配比的反应气体,在特定激活条件下(通常是一定高的温度),通过气相化学反应生成新的膜层材料沉积到基片上制取膜层的一种方法。
价签:
真空镀膜术语